高分辨率納米壓印模板（Mold for nanoimprint lithography）技術(shù)參數(shù)：  

Deliveryofnanoimprinttemplatesinvariousmaterials（Si,SiNx,SiC,quartz,glass）.Maximumareaofthetemplates:4inchwithfeaturesizeof100nm.Forsmallerarea,minimumfeaturesizeof50nm.  

提供各種材料的納米壓印模板（硅，氮化硅，碳化硅，石英玻璃）。模板zui大尺寸：4英寸，特征尺寸為100nm。對于更小的尺寸，zui小的特征尺寸可以達到50nm。  

DeliveryofEBLserviceforvariousstructureswiththefeaturesizedownto30nm.Substrates:anyconductingornon-conductingwafers.  

提供zui低30nm特征尺寸的各種結(jié)構(gòu)的電子束刻蝕服務(wù)。基板：任何導(dǎo)電或者非導(dǎo)電晶片。  

MicroandnanofabricationsforallkindsofnanostructuresinaSi,III-V,II-VIandpolymers.  

各種納米結(jié)構(gòu)（硅，III-V族元素，II-VI族元素以及聚合物）的微納米加工。  

高分辨率納米壓印模板（Mold for nanoimprint lithography）主要特點：  

softmoldforthermalnanoimprint熱壓印的軟模板  

quartzmoldforUVnanoimprint紫外壓印的石英模板  

siliconmoldforthermalnanoimprint熱壓印的硅模板