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產(chǎn)品中心鍍膜機(jī)Desk V 沉積鍍膜機(jī)
產(chǎn)品簡介
Desk V沉積鍍膜機(jī)使用一個(gè)2英寸的陰極進(jìn)行濺射，由一個(gè)最大輸出為100毫安的直流電源驅(qū)動(dòng)。使用傾斜/旋轉(zhuǎn)臺(tái)來實(shí)現(xiàn)好的樣品覆蓋，特別是在粗糙的表面。Desk V還可以在沉積前用蝕刻臺(tái)和快門對樣品進(jìn)行預(yù)清潔。不需要濺射嗎？你可以使用碳棒或碳紗進(jìn)行蒸發(fā)。Desk V包括一個(gè)堅(jiān)固的機(jī)械泵，可迅速將系統(tǒng)的工作壓力提高到50 mtorr。想要更多的功能?選擇有著鋼制腔室和渦輪分子泵的DeskTSC來濺射
| 品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,電子/電池,航空航天 |
Desk V 沉積鍍膜機(jī)
Desk V沉積的涂層材料選擇廣泛（包括銥），而可調(diào)節(jié)的旋轉(zhuǎn)和傾斜平臺(tái)確保了高度均勻的涂層，具有良好的一致性和覆蓋率，即使是在 表面極不規(guī)則的樣品上。Desk V很容易從金屬濺射轉(zhuǎn)換到碳蒸發(fā)。 DeskV包括一個(gè)易于更換的、落地式的、絕緣的旋轉(zhuǎn)試樣臺(tái)。special的臺(tái)面旋轉(zhuǎn)設(shè)計(jì)可以改變臺(tái)面的傾斜程度，以確保特殊的均勻性、一致 性和覆蓋性。臺(tái)面高度可以從3.5英寸（90毫米）調(diào)整到5英寸（130毫米），讓你精確控制光源與基底的距離。
Desk V 沉積鍍膜機(jī)
Desk V的即插即用功能為你消除了許多學(xué)習(xí)障礙。 只需按一下6英寸的觸摸屏，就可以管理系統(tǒng)的每一個(gè)點(diǎn)--從泵送到沉積到工藝控制到排氣。Desk V的新型全彩觸摸屏控制提供了直觀 和簡單的操作，包括對功率、壓力、持續(xù)時(shí)間和通風(fēng)的定時(shí)濺射和蝕刻工藝設(shè)置點(diǎn)。 Desk V為繁忙的研究人員和顯微人員設(shè)計(jì)和建造，具有創(chuàng)建、存儲(chǔ)和運(yùn)行多達(dá)10個(gè)涂層配方的新能力，現(xiàn)在的工藝運(yùn)行可以實(shí)現(xiàn)更好 的一致性，更精確的層，以及更統(tǒng)一、可重復(fù)的涂層結(jié)果。在今天的多用戶環(huán)境中，這種*的配方編程和存儲(chǔ)能力也為材料的切換 提供了方便，并能夠存儲(chǔ)各種不同的工藝配方。所有這些都導(dǎo)致了更高的生產(chǎn)率、可重復(fù)性和易用性。
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